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Sensofar白光干涉儀：高分辨表面形貌測量

產(chǎn)品簡介

Sensofar白光干涉儀：高分辨表面形貌測量
Sensofar白光干涉儀采用非接觸式光學(xué)測量技術(shù)，適用于微納米級表面形貌分析，可滿足半導(dǎo)體、精密制造、材料科學(xué)等領(lǐng)域的高精度檢測需求。

產(chǎn)品型號：S neox
更新時間：2025-08-18
廠商性質(zhì)：代理商
訪問量：76
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Sensofar白光干涉儀：高分辨表面形貌測量

產(chǎn)品概述

Sensofar白光干涉儀采用非接觸式光學(xué)測量技術(shù)，適用于微納米級表面形貌分析，可滿足半導(dǎo)體、精密制造、材料科學(xué)等領(lǐng)域的高精度檢測需求。

核心性能

  • •測量范圍：垂直分辨率達0.1nm，橫向分辨率1μm


  • •多模式檢測：支持白光干涉（WLI）、共聚焦（CLI）、聚焦變化（FVI）


  • •快速掃描：高速采集數(shù)據(jù)，減少測量時間


  • •大視野兼容：適配不同放大倍率物鏡，支持小區(qū)域至大面積掃描

用材與結(jié)構(gòu)

  • •光學(xué)系統(tǒng)：高穩(wěn)定性干涉鏡頭，減少環(huán)境干擾


  • •樣品臺：精密電動載物臺，定位精度高


  • •軟件分析：內(nèi)置3D形貌重建、粗糙度計算、臺階高度分析等功能

參數(shù)表

型號

S neox

S mart

垂直分辨率

0.1nm

1nm

橫向分辨率

1μm

2μm

最大視場

10mm×10mm

5mm×5mm

掃描速度

高速模式可選

標準模式

兼容物鏡

2.5X~150X

5X~100X

主要用途

  • •半導(dǎo)體晶圓表面缺陷檢測


  • •MEMS器件三維形貌分析


  • •精密光學(xué)元件面型測量


  • •材料表面粗糙度與臺階高度表征

使用說明

1.樣品準備：確保表面清潔，避免強反射干擾測量。

2.模式選擇：根據(jù)樣品特性選用WLI、CLI或FVI模式。

3.參數(shù)設(shè)置：調(diào)整掃描范圍、分辨率及物鏡倍率。

4.數(shù)據(jù)分析：通過軟件生成3D形貌圖并導(dǎo)出測量報告。

Sensofar白光干涉儀以靈活的測量模式和穩(wěn)定的性能，助力科研與工業(yè)檢測。如需技術(shù)演示或定制方案，歡迎聯(lián)系支持。Sensofar白光干涉儀：高分辨表面形貌測量


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