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基恩士 VK-X3000:微觀世界的探索利器

產(chǎn)品簡介

基恩士 VK-X3000:微觀世界的探索利器
VK-X3000的用途因此十分廣泛。它可以用于測量金屬件的加工粗糙度,檢查玻璃表面的微小劃痕,評估高分子材料的磨損情況,分析涂層或鍍層的厚度與均勻性,甚至觀察生物材料的表面結(jié)構(gòu)。這種對多材料的適應性,使其成為跨行業(yè)研發(fā)和品質(zhì)管理中一種有用的工具。

產(chǎn)品型號:
更新時間:2025-10-12
廠商性質(zhì):代理商
訪問量:73
詳細介紹在線留言

在科學研究與工業(yè)生產(chǎn)的諸多領域,深入探索微觀世界的奧秘、精準把握微觀結(jié)構(gòu)的細節(jié)至關重要。基恩士 VK-X3000 激光共聚焦顯微鏡,憑借優(yōu)良的技術(shù)、出色的性能與人性化的設計,成為微觀觀測與分析的得力助手。基恩士 VK-X3000:微觀世界的探索利器
一、產(chǎn)品細節(jié)與技術(shù)原理
基恩士 VK-X3000 采用正置分體式測量光路結(jié)構(gòu),這種設計有助于優(yōu)化光路傳輸,減少干擾,保證成像的清晰度與穩(wěn)定性。設備配備 16BIT 光電倍增器,可實現(xiàn)高靈敏度的光信號檢測,將微弱的光信號轉(zhuǎn)化為精確的電信號,配合面陣探測器彩色 CMOS,能捕捉到豐富的色彩與細節(jié)信息,真實還原樣品微觀結(jié)構(gòu)的色彩特征。
該顯微鏡支持激光共聚焦、聚焦變化以及白光干涉三種測量模式。激光共聚焦模式下,通過點光源發(fā)射激光,經(jīng) X - Y 掃描光學系統(tǒng)對觀察視野進行掃描,受光元件檢測各像素反射光,在 Z 軸方向驅(qū)動物鏡反復掃描,以反射光量最高的 Z 軸位置為焦點確定高度信息,此模式能有效排除焦點位置以外的反射光,實現(xiàn)高精度測量與高分辨率觀察。聚焦變化模式則基于景深原理,以合適移動間距從下往上移動物鏡,同時利用 560 萬像素高精細彩色 C - MOS 相機捕捉高畫質(zhì)圖像的焦點變化,通過比較相鄰像素亮度差確定聚焦位置,進而獲取目標物的 3D 測量數(shù)據(jù),并合成聚焦于整體的觀察圖像。白光干涉模式通過 CMOS 元件觀測光的干涉圖樣來求解三維形狀,使用內(nèi)置基準平面鏡的干涉物鏡,將白色 LED 光照射到基準平面鏡與目標物上,根據(jù)干涉條紋計算目標物高度,對測量微小尺寸與表面微觀形貌極為有效。
二、產(chǎn)品性能
  1. 分辨率與精度:在激光共聚焦模式下,不同物鏡展現(xiàn)出優(yōu)秀的高度與寬度重復性精度。如 10X 物鏡高度重復性精度 σ 可達 100nm,寬度重復性精度 3σ 為 400nm;20X 物鏡高度重復性精度 σ 為 40nm,寬度重復性精度 3σ 為 100nm;50X 物鏡高度重復性精度 σ 達 20nm,寬度重復性精度 3σ 為 50nm。聚焦變化模式下,5X 物鏡高度重復性精度 σ 為 500nm,寬度重復性精度 3σ 為 400nm 等,不同倍率物鏡均能滿足多種精度要求的測量場景。其高度測量精度可達 0.2 + l/100μm 或更低(l 為測量長度),寬度精度為測量值 ±2% 或更低,能精準測量微小形狀變化,即便是納米級別的細節(jié)也能清晰呈現(xiàn)。

  1. 測量范圍:載物臺 X/Y/Z 軸最大行程分別為 100mm@X 軸、100mm@Y 軸、50mm@Z 軸,可適應不同尺寸樣品的檢測需求。同時,該顯微鏡能覆蓋從微觀納米級到宏觀毫米級的測量范圍,無論是微小的芯片元件,還是尺寸較大的機械零件表面結(jié)構(gòu),都能進行全面且細致的觀測分析。

  1. 掃描速度:通過優(yōu)化感應技術(shù)與測量進程,基恩士 VK-X3000 在保證測量精度的同時,具備較快的掃描速度。表面測量最快可達 125Hz,線測量最高可達 7900Hz,可在短時間內(nèi)獲取大量測量數(shù)據(jù),顯著提升工作效率,尤其適用于批量樣品檢測或?qū)r間要求較高的實驗場景。

三、用材與設計
  1. 光學部件:所配物鏡選用優(yōu)質(zhì)光學材料,不同倍率物鏡具備相應出色性能。如 5X 物鏡數(shù)值孔徑 NA≥0.13,工作距離 WD22.5mm;10X 物鏡 NA≥0.30,WD16.5mm 等,能滿足不同觀測深度與分辨率需求。同時,采用連畫面邊緣都少有失真的遠心鏡頭,確保在整個視野內(nèi)進行高精度測量,如實捕捉目標物的形狀和大小。光源方面,配備 661nm 半導體紅色激光(II 類激光)以及白色 LED 光源,為不同測量模式提供穩(wěn)定可靠的照明。

  1. 機身與載物臺:機身設計緊湊合理,便于安置與操作。載物臺 XY 軸支持電動運行方式,方便快速調(diào)整樣品位置;Z 軸支持電動及手動運行方式,滿足精細調(diào)節(jié)需求。載物臺采用穩(wěn)固材質(zhì),可穩(wěn)定承載各類樣品,確保測量過程中樣品不會發(fā)生位移或晃動,影響測量結(jié)果。

四、用途
  1. 材料科學研究:在金屬材料研究中,可用于觀察金屬晶體結(jié)構(gòu)、分析材料內(nèi)部缺陷與微觀組織形態(tài),幫助研究人員了解材料性能與微觀結(jié)構(gòu)的關系,為材料研發(fā)與性能優(yōu)化提供依據(jù);對于高分子材料,能觀測材料表面的微觀形貌、相分離結(jié)構(gòu)等,助力開發(fā)新型高分子材料。

  1. 半導體行業(yè):檢測芯片表面的平整度、線路高度與寬度、芯片封裝質(zhì)量等。例如,通過測量芯片線路的尺寸精度,判斷芯片制造工藝是否達標,確保芯片性能穩(wěn)定可靠,提升半導體產(chǎn)品的良品率。

  1. 生物醫(yī)學領域:觀察生物組織切片的微觀結(jié)構(gòu),如細胞形態(tài)、組織結(jié)構(gòu)層次等,輔助病理診斷;在生物材料研究中,分析生物植入體表面的微觀特征,評估其生物相容性,為生物醫(yī)學工程的發(fā)展提供支持。

  1. 精密制造與質(zhì)量控制:在精密模具制造中,測量模具表面的粗糙度、尺寸精度以及微小瑕疵,保障模具制造質(zhì)量;在電子元件制造中,對微小電子元件的尺寸、形狀進行精確測量與質(zhì)量檢測,確保元件符合生產(chǎn)標準。

五、基恩士 VK-X3000 參數(shù)表
項目
詳情
設備型號
VK-X3000
測量光路結(jié)構(gòu)
正置分體式
探測器模塊
16BIT 光電倍增器、面陣探測器彩色 CMOS
載物臺運行方式
XY 軸電動,Z 軸電動及手動
載物臺行程
X 軸 100mm,Y 軸 100mm,Z 軸 50mm
測量模式
激光共聚焦、聚焦變化、白光干涉
物鏡數(shù)值孔徑及工作距離
5X 物鏡:NA≥0.13,WD22.5mm;10X 物鏡:NA≥0.30,WD16.5mm;20X 物鏡:NA≥0.46,WD3.1mm;50X 物鏡:NA≥0.8,WD0.54mm;150X APO 物鏡:NA≥0.95,WD0.2mm;20X 干涉物鏡:WD4.7mm
光源類型
661nm 半導體紅色激光(II 類激光)、白色 LED 光源
激光共聚焦模式高度重復性精度 σ
10X 物鏡:100nm;20X 物鏡:40nm;50X 物鏡:20nm
激光共聚焦模式寬度重復性精度 3σ
10X 物鏡:400nm;20X 物鏡:100nm;50X 物鏡:50nm
聚焦變化模式高度重復性精度 σ
5X 物鏡:500nm;10X 物鏡:100nm;20X 物鏡:50nm;50X 物鏡:30nm
聚焦變化模式寬度重復性精度 3σ
5X 物鏡:400nm;10X 物鏡:400nm;20X 物鏡:120nm;50X 物鏡:65nm
掃描速度
表面:125Hz,線:7900Hz
總放大倍數(shù)
42× 至 28800×
視野范圍
11 至 7398μm
電源要求
100 至 240VAC,50/60Hz,150VA
環(huán)境要求
環(huán)境溫度 + 15 至 28°C,相對濕度 20 至 80% RH(無冷凝)
重量
約 3kg(控制器)
六、使用說明
  1. 樣品準備:根據(jù)樣品性質(zhì)與觀測需求,選擇合適的樣品固定方式,確保樣品穩(wěn)固放置在載物臺上,且觀測區(qū)域位于物鏡正下方。對于生物樣品,可能需要進行切片、染色等預處理;對于金屬、電子元件等樣品,需確保表面清潔,無雜質(zhì)、油污等影響觀測的物質(zhì)。

  1. 設備開機與參數(shù)設置:接通電源,開啟設備。根據(jù)樣品類型與測量目的,在操作界面選擇相應的測量模式(激光共聚焦、聚焦變化或白光干涉)。設置物鏡倍率、掃描范圍、掃描速度、分辨率等參數(shù)。例如,若觀測芯片表面細微線路,可選擇高倍率物鏡與較高分辨率;若測量較大尺寸樣品的整體形貌,可適當擴大掃描范圍,選擇較低倍率物鏡。

  1. 對焦與測量:通過手動或電動調(diào)節(jié) Z 軸,使物鏡接近樣品,利用激光自動對焦功能初步確定焦點位置,再進行微調(diào),直至獲得清晰的圖像。啟動掃描程序,設備將按照設定參數(shù)對樣品進行掃描,獲取微觀結(jié)構(gòu)數(shù)據(jù)。掃描過程中,可實時觀察圖像質(zhì)量,若發(fā)現(xiàn)異常,可暫停掃描,調(diào)整參數(shù)后重新測量。

  1. 數(shù)據(jù)處理與分析:測量完成后,設備配套軟件自動生成測量數(shù)據(jù)與圖像。利用軟件內(nèi)置的 292 種分析工具,對數(shù)據(jù)進行處理分析,如測量高度、寬度、面積、體積,計算粗糙度,進行幾何測量等。可通過動態(tài)三維顯示功能,從不同角度觀察樣品微觀結(jié)構(gòu),更直觀地了解樣品特征。

  1. 結(jié)果保存與設備關閉:將測量數(shù)據(jù)與分析結(jié)果以合適格式(如模板報告模式 JPEG/TIF/BMP、CSV 格式文件、Excel 多文件報告格式等)保存至指定存儲設備。關閉設備電源,清理載物臺,為下一次使用做好準備。

基恩士 VK-X3000 激光共聚焦顯微鏡以其的產(chǎn)品細節(jié)、出色的性能表現(xiàn)、優(yōu)質(zhì)的用材設計以及廣泛的用途,為各行業(yè)用戶提供了強大的微觀檢測與分析能力,助力科研人員突破研究瓶頸,幫助企業(yè)提升產(chǎn)品質(zhì)量與生產(chǎn)效率,在微觀世界的探索中發(fā)揮著重要作用。

基恩士VK?X3000:參數(shù)表與型號對比


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