布魯克三維光學(xué)輪廓儀測量性能與技術(shù)實現(xiàn)

產(chǎn)品簡介

布魯克三維光學(xué)輪廓儀測量性能與技術(shù)實現(xiàn)
布魯克ContourX-200三維光學(xué)輪廓儀的測量性能是其核心競爭力，主要體現(xiàn)在分辨率、重復(fù)性與適應(yīng)性三個方面。這些性能的達(dá)成，依賴于光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計、信號處理算法與機(jī)械穩(wěn)定性的深度優(yōu)化。

產(chǎn)品型號：ContourX-200

更新時間：2025-10-13

廠商性質(zhì)：代理商

訪問量：29

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產(chǎn)品分類

PRODUCT CLASSIFICATION

三維光學(xué)輪廓儀

布魯克 BEUKER白光干涉光學(xué)輪廓儀 Sensofar 儀光新型共聚焦白光干涉儀 SENSOFAR 3D光學(xué)輪廓儀 SENSOFAR共聚焦白光干涉儀 SENSOFAR結(jié)構(gòu)光三維輪廓儀 SENSOFAR平面度測量干涉儀 ZYGO三維光學(xué)輪廓儀布魯克三維光學(xué)輪廓儀

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布魯克三維光學(xué)輪廓儀測量性能與技術(shù)實現(xiàn)

布魯克ContourX-200三維光學(xué)輪廓儀的測量性能是其核心競爭力，主要體現(xiàn)在分辨率、重復(fù)性與適應(yīng)性三個方面。這些性能的達(dá)成，依賴于光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計、信號處理算法與機(jī)械穩(wěn)定性的深度優(yōu)化。

分辨率表現(xiàn)：設(shè)備采用白光干涉技術(shù)，理論垂直分辨率可達(dá)0.1nm，實際測量中受樣品反射率與表面傾斜度影響，典型值為0.5-2nm。橫向分辨率由物鏡數(shù)值孔徑?jīng)Q定，5×物鏡（NA=0.15）下約1.5μm，100×物鏡（NA=0.9）下提升至0.2μm，可捕捉納米級表面特征。例如，在測量單晶硅片表面拋光缺陷時，100×物鏡能清晰識別寬度50nm的劃痕，滿足半導(dǎo)體行業(yè)對表面質(zhì)量的嚴(yán)苛要求。

測量重復(fù)性：通過機(jī)械平臺的高精度定位與環(huán)境補(bǔ)償算法，設(shè)備在相同條件下對同一樣品的重復(fù)測量偏差小于1%。測試數(shù)據(jù)顯示，連續(xù)10次掃描同一標(biāo)準(zhǔn)臺階樣件（高度10μm），峰谷值偏差穩(wěn)定在±0.05μm以內(nèi)，這一表現(xiàn)得益于線性電機(jī)的閉環(huán)控制（編碼器分辨率1nm）與壓電陶瓷的亞納米級位移精度。

技術(shù)實現(xiàn)細(xì)節(jié)：光學(xué)系統(tǒng)中，參考鏡與樣品鏡的共軸設(shè)計減少了雜散光干擾，配合窄帶濾光片（帶寬±10nm），提升了干涉條紋對比度。信號處理端采用布魯克自研的“智能降噪"算法，可自動識別有效干涉信號與噪聲，縮短數(shù)據(jù)處理時間（單幀掃描時間低至50ms）。此外，設(shè)備支持“自動聚焦"功能，通過分析干涉條紋對比度，快速調(diào)整Z軸位置至優(yōu)良測量高度，降低人為操作誤差。

適應(yīng)性擴(kuò)展：針對不同樣品特性，設(shè)備提供多種測量模式。例如，對反光較弱的樣品（如陶瓷基片），可切換至“低反射模式"，通過增加曝光時間與增益補(bǔ)償，提升信號強(qiáng)度；對曲面樣品（如球面透鏡），結(jié)合“三維拼接"功能，可自動拼接多區(qū)域掃描數(shù)據(jù)，生成完整的三維形貌圖。

實際應(yīng)用中，某光學(xué)元件廠商使用ContourX-200檢測非球面透鏡的表面粗糙度，通過100×物鏡與共聚焦技術(shù)，測得Ra值為1.2nm（標(biāo)準(zhǔn)值≤1.5nm），驗證了設(shè)備在高反射率、復(fù)雜曲面場景下的可靠性能。

布魯克三維光學(xué)輪廓儀測量性能與技術(shù)實現(xiàn)