在工業(yè)生產與科學研究中，待測樣品表面往往具有復雜的特性，如高陡坡、透明薄膜或顯著的反光差異，這對測量設備提出了要求。布魯克白光干涉儀通過一系列技術設計，來應對這些挑戰(zhàn)。布魯克白光干涉光學輪廓儀應對復雜表面測量

對于具有高深寬比或陡峭側壁的結構，儀器的長工作距離物鏡和特殊的抗散斑技術，能有效改善光斑質量，確保光線能進入結構底部并返回探測器，從而減少測量盲區(qū)。其先進的相位掃描分析算法，增強了在斜率變化較大區(qū)域的形貌還原能力。

在測量透明薄膜或多層結構時，可能會產生多重干涉信號，造成測量干擾。該設備的軟件通常配備了專門的薄膜分析模塊，能夠識別并處理來自薄膜上下表面的信號，從而準確解析出薄膜的真實厚度或下層的形貌。

此外，面對高反光或低反光樣品，儀器提供光強調節(jié)功能，并可選配偏振組件，以優(yōu)化干涉信號，避免探測器飽和或信號過弱的情況，確保在不同材質樣品上都能獲得可用的測量數據。這種適應性使其在從金屬、陶瓷到聚合物、生物樣品等多種材料上都有應用空間。

型號示例: ContourX系列

• 用途: 適用于研發(fā)與質量檢測領域，如半導體、微機電系統(tǒng)、光學薄膜、材料科學等表面的三維形貌、粗糙度、臺階高度等參數測量。

• 使用簡述: 操作通過電腦軟件控制。將樣品置于樣品臺上，選擇合適倍率的物鏡，在軟件中調整光強和掃描范圍，啟動自動測量程序即可獲取數據，并可進行后續(xù)分析。

簡要參數參考:

• 垂直分辨率: < 0.1 nm

• 最大垂直掃描范圍: 可達數毫米

• 物鏡選項: 2.5X, 10X, 20X, 50X, 100X 等

• 平臺移動范圍: 依型號而定，通常為 100mm x 100mm 或更大

• 布魯克白光干涉光學輪廓儀應對復雜表面測量