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光學(xué)顯微鏡
奧林巴斯顯微鏡
OLS5100激光共聚焦顯微鏡開啟微觀分析
OLS5100激光共聚焦顯微鏡開啟微觀分析在科技不斷進(jìn)步的今天,微觀世界的奧秘吸引著眾多科研與工業(yè)檢測人員的探索。奧林巴斯激光共聚焦顯微鏡OLS5100,以其獨(dú)特的技術(shù)優(yōu)勢,為微觀分析開啟了新的篇章。
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OLS5100激光共聚焦顯微鏡開啟微觀分析
在科技不斷進(jìn)步的今天,微觀世界的奧秘吸引著眾多科研與工業(yè)檢測人員的探索。奧林巴斯激光共聚焦顯微鏡OLS5100,以其獨(dú)特的技術(shù)優(yōu)勢,為微觀分析開啟了新的篇章。
OLS5100采用優(yōu)良的X - Y掃描振鏡技術(shù),將采用電磁感應(yīng)MEMS諧振掃描儀的X軸與采用Galvano掃描振鏡的Y軸相結(jié)合,讓X - Y掃描儀定位于相對物鏡瞳鏡共軛的位置,實(shí)現(xiàn)具有較低掃描軌跡失真和較小光學(xué)像差的X - Y掃描。這種創(chuàng)新設(shè)計(jì),使得設(shè)備在掃描過程中能夠更準(zhǔn)確地捕捉樣品的微觀信息,為后續(xù)的分析提供可靠的數(shù)據(jù)基礎(chǔ)。
OLS5100具備出色的三維成像能力,能夠捕捉任意表面形狀。其掃描算法既可提高數(shù)據(jù)質(zhì)量又可提高速度,從而縮短掃描時(shí)間,簡化工作流程,提升生產(chǎn)力。設(shè)備支持非接觸、非破壞的觀察方式,僅需按下“Start(開始)"按鈕,用戶就能在亞微米級進(jìn)行精細(xì)的形貌測量。對于需要觀察大型樣品的客戶,LEXT的長工作距離物鏡和選配的擴(kuò)展機(jī)架使得系統(tǒng)能夠適用于高達(dá)210mm的樣本。
核心光學(xué)部件選用高透光率石英玻璃,配合多層鍍膜技術(shù),減少激光能量損失與雜散光干擾。樣品臺臺面采用耐磨陶瓷材質(zhì),表面平整度誤差小于2μm,抗腐蝕且耐高溫。內(nèi)部機(jī)械傳動(dòng)部件采用精密滾珠絲杠與伺服電機(jī),保障長期使用后的運(yùn)動(dòng)精度。這些優(yōu)質(zhì)的材料選擇,確保了設(shè)備在長時(shí)間的使用過程中能夠保持穩(wěn)定的性能,為用戶提供可靠的觀測結(jié)果。
參數(shù)項(xiàng) | 具體數(shù)值 |
---|---|
激光波長 | 405nm |
縱向分辨率 | 10nm |
橫向分辨率 | 100nm |
掃描范圍 | X/Y軸最大150mm×150mm,Z軸最大10mm |
樣品臺承重 | 5kg |
掃描模式 | 2D成像、3D掃描、線掃描 |
圖像分辨率 | 最高4096×4096像素 |
分析功能 | 粗糙度、體積、臺階高度計(jì)算等 |
OLS5100提供多種型號,如OLS5100 - SAF、OLS5100 - LAF等。OLS5100 - SAF適用于對精度要求較高的半導(dǎo)體檢測等領(lǐng)域,其高分辨率和精準(zhǔn)的測量能力能夠滿足芯片表面微結(jié)構(gòu)的分析需求;OLS5100 - LAF則更適合大型機(jī)械零件的粗糙度分析,其較大的樣品容納空間和長工作距離物鏡,能夠方便地對大型樣品進(jìn)行觀測和測量。
在納米材料研發(fā)中,OLS5100可觀察納米顆粒的分散狀態(tài),為材料的性能優(yōu)化提供依據(jù);在薄膜科學(xué)研究中,測量薄膜的厚度均勻性和表面粗糙度,幫助研究人員改進(jìn)沉積工藝;在生物醫(yī)學(xué)領(lǐng)域,觀察細(xì)胞在支架表面的黏附形態(tài),為組織工程和再生醫(yī)學(xué)的研究提供重要信息;在金屬材料研究中,分析金屬疲勞后的納米級裂紋擴(kuò)展,為材料的壽命評估和改進(jìn)提供數(shù)據(jù)支持。
使用前,將設(shè)備放置在穩(wěn)定的工作環(huán)境中,連接電源與相關(guān)配件。打開設(shè)備電源,進(jìn)行預(yù)熱與激光校準(zhǔn)。樣品制備需符合共聚焦測量要求,確保樣品表面清潔、干燥。將樣品放置在樣品臺上,通過操作界面設(shè)置掃描參數(shù),如掃描范圍、分辨率、掃描速度等。選擇合適的掃描模式,啟動(dòng)掃描后,設(shè)備自動(dòng)完成數(shù)據(jù)采集與處理。掃描完成后,利用配套軟件進(jìn)行數(shù)據(jù)分析,計(jì)算所需參數(shù),生成檢測報(bào)告。
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