布魯克白光干涉儀輪廓儀基礎(chǔ)參數(shù)與設(shè)備規(guī)格

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

布魯克白光干涉儀輪廓儀基礎(chǔ)參數(shù)與設(shè)備規(guī)格
布魯克三維光學(xué)輪廓儀 ContourX-100 憑借獨(dú)特的光學(xué)測(cè)量原理，具備多項(xiàng)實(shí)用性能，在多個(gè)領(lǐng)域展現(xiàn)出廣泛的應(yīng)用價(jià)值，是工業(yè)生產(chǎn)與科研實(shí)驗(yàn)中的重要測(cè)量工具。

產(chǎn)品型號(hào)：ContourX-100

更新時(shí)間：2025-10-13

廠商性質(zhì)：代理商

訪問(wèn)量：30

產(chǎn)品咨詢 17701039158

產(chǎn)品分類

PRODUCT CLASSIFICATION

三維光學(xué)輪廓儀

布魯克 BEUKER白光干涉光學(xué)輪廓儀 Sensofar 儀光新型共聚焦白光干涉儀 SENSOFAR 3D光學(xué)輪廓儀 SENSOFAR共聚焦白光干涉儀 SENSOFAR結(jié)構(gòu)光三維輪廓儀 SENSOFAR平面度測(cè)量干涉儀 ZYGO三維光學(xué)輪廓儀布魯克三維光學(xué)輪廓儀

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布魯克白光干涉儀輪廓儀基礎(chǔ)參數(shù)與設(shè)備規(guī)格

ContourX-100三維光學(xué)輪廓儀作為布魯克的代表性臺(tái)式設(shè)備，型號(hào)明確為ContourX-100，工作原理基于白光干涉技術(shù)，屬于非接觸式測(cè)量設(shè)備。其核心物理參數(shù)展現(xiàn)了緊湊化設(shè)計(jì)思路：設(shè)備體積控制在330mm×330mm×550mm以內(nèi)，重量低于18kg，這種尺寸優(yōu)勢(shì)使其可直接放置于實(shí)驗(yàn)室工作臺(tái)或工廠生產(chǎn)線旁，無(wú)需額外占用大面積空間。

設(shè)備的光源采用特殊設(shè)計(jì)的長(zhǎng)壽命白光 LED，具備均勻成像與高效率特點(diǎn)，能為干涉測(cè)量提供穩(wěn)定的光信號(hào)支持，減少因光源衰減導(dǎo)致的測(cè)量偏差。攝像頭作為圖像采集核心，采用 500 萬(wàn)像素彩色 CCD，分辨率為 2592×1944，配合 1X、2X、4X 光學(xué)變焦模塊，可根據(jù)測(cè)量需求調(diào)整視野范圍，變焦后有效像素為 648×484。

布魯克白光干涉儀輪廓儀基礎(chǔ)參數(shù)與設(shè)備規(guī)格

二、核心測(cè)量參數(shù)詳解

（一）縱向測(cè)量能力

縱向掃描系統(tǒng)由閉環(huán)反饋壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)，形成雙重測(cè)量范圍：基礎(chǔ)縱向運(yùn)動(dòng)范圍達(dá) 100mm，壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)的精細(xì)掃描范圍為 500μm，兩種模式下測(cè)量精度均可達(dá) 0.1nm。這種設(shè)計(jì)既滿足了大尺寸臺(tái)階的測(cè)量需求，也能應(yīng)對(duì)薄膜厚度等微小尺寸參數(shù)的檢測(cè)。垂向掃描速度為 12μm/sec，在保證精度的同時(shí)提升了測(cè)量效率。

（二）模式與重復(fù)性參數(shù)

設(shè)備支持 WLI 和 PSI 兩種測(cè)量模式的一鍵切換。WLI 模式適用于 50nm 至 10mm 的厚度測(cè)量，RMS 重復(fù)性為 1.0nm；PSI 模式則針對(duì) 0 至 3μm 的薄型樣品，RMS 重復(fù)性達(dá) 0.1nm。在臺(tái)階高度測(cè)量方面，準(zhǔn)確性為 0.7%，精確度 0.1%，穩(wěn)定性 0.15%，且支持以直方圖形式呈現(xiàn)測(cè)量結(jié)果，便于數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)分析。

（三）載物臺(tái)與拼接參數(shù)

手動(dòng)載物臺(tái)尺寸為 100mm×100mm，具備四向傾斜水平調(diào)整功能，偏角調(diào)整范圍為 ±5°，可通過(guò)手動(dòng)操作實(shí)現(xiàn)樣品的精準(zhǔn)定位。圖形拼接（Stitching）功能可通過(guò)多次掃描將小區(qū)域形貌合成大區(qū)域 3D 形貌圖，配合更新后的載物臺(tái)設(shè)計(jì)，進(jìn)一步擴(kuò)大了有效測(cè)量面積。

三、參數(shù)與應(yīng)用的適配邏輯

ContourX-100 的參數(shù)設(shè)計(jì)與實(shí)際應(yīng)用需求高度匹配。例如，0.05% 至 100% 的反射率適配范圍，使其可用于精密加工表面（低反射率）、光學(xué)元件（高反射率）等多種樣品類型。在 MEMS 行業(yè)中，1.0nm 的 WLI 重復(fù)性可滿足刻蝕深度的批次檢測(cè)需求；而骨科植入物的表面粗糙度測(cè)量則可通過(guò) ISO 25178 標(biāo)準(zhǔn)分析功能完成數(shù)據(jù)處理。

對(duì)于工廠車(chē)間場(chǎng)景，設(shè)備的高穩(wěn)定性參數(shù)（如臺(tái)階高度穩(wěn)定性 0.15%）能應(yīng)對(duì)生產(chǎn)環(huán)境中的輕微振動(dòng)；實(shí)驗(yàn)室場(chǎng)景下，PSI 模式的高重復(fù)性則可支持材料研發(fā)中的精細(xì)參數(shù)對(duì)比。此外，設(shè)備支持的 Color Imaging 功能可通過(guò)軟件 license 升級(jí)，無(wú)需額外硬件即可實(shí)現(xiàn)樣品真實(shí)色彩輸出，滿足科研報(bào)告中的圖像呈現(xiàn)需求。

四、參數(shù)驗(yàn)證與校準(zhǔn)支持

為保證參數(shù)準(zhǔn)確性，設(shè)備標(biāo)配 1.25 英寸 10 微米臺(tái)階高度標(biāo)準(zhǔn)厚度片（SHS-CrOnSi-10um），用戶可定期進(jìn)行校準(zhǔn)操作。布魯克還提供安裝調(diào)試現(xiàn)場(chǎng)免費(fèi)培訓(xùn)，以及額外的免費(fèi)或付費(fèi)培訓(xùn)服務(wù)，幫助用戶正確理解參數(shù)含義與操作規(guī)范，確保測(cè)量數(shù)據(jù)的可靠性。這些配套服務(wù)進(jìn)一步提升了參數(shù)的實(shí)際應(yīng)用價(jià)值，使設(shè)備能更好地融入不同用戶的工作流程。布魯克白光干涉儀輪廓儀基礎(chǔ)參數(shù)與設(shè)備規(guī)格

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