Sensofar S neox 3D光學(xué)輪廓儀的設(shè)計(jì)理念是集成與靈活。它并非單一技術(shù)儀器，而是一個(gè)將共聚焦成像、白光干涉（VSI）和相移干涉（PSI）三種核心技術(shù)融于一身的多模式測量平臺(tái)。

這種多模式能力意味著用戶在面對不同特性的樣品時(shí)，無需更換設(shè)備即可完成測量。例如，測量一個(gè)既有光滑區(qū)域又有粗糙區(qū)域的復(fù)合樣品時(shí)，可以先使用共聚焦模式掃描粗糙部分，再切換至白光干涉模式測量光滑區(qū)域的納米級(jí)細(xì)節(jié)。儀器軟件可智能輔助模式選擇，甚至支持在同一測量區(qū)域內(nèi)自動(dòng)切換模式，確保每個(gè)區(qū)域都能用最合適的技術(shù)進(jìn)行采集，從而獲得完整且準(zhǔn)確的三維形貌數(shù)據(jù)。

S neox在機(jī)械結(jié)構(gòu)上注重穩(wěn)定性，采用 rigid 的設(shè)計(jì)和材料以減少環(huán)境干擾。其自動(dòng)物鏡轉(zhuǎn)盤可容納多達(dá)5個(gè)物鏡，實(shí)現(xiàn)從大視場導(dǎo)航到高分辨率細(xì)節(jié)測量的無縫切換，倍率范圍可從2.5X覆蓋至100X甚至更高。

在性能方面，其共聚焦模式能有效處理高斜率和低反射率表面，而白光干涉模式則提供了亞納米級(jí)的垂直分辨率，適用于超光滑表面的精密檢測。

用途廣泛：

• 微電子： 測量MEMS器件、硅片凸點(diǎn)、薄膜臺(tái)階。

• *材料： 分析涂層、復(fù)合材料、粗糙表面的3D紋理。

• 精密光學(xué)： 檢測非球面、自由曲面鏡子的面形和粗糙度。

使用說明： 用戶通過軟件選擇測量區(qū)域和所需的技術(shù)模式，設(shè)置掃描參數(shù)后，儀器可自動(dòng)完成對焦、掃描和數(shù)據(jù)分析。高級(jí)的圖像拼接功能允許將多個(gè)視場的數(shù)據(jù)合并，創(chuàng)建大面積的高分辨率三維圖像。

對于研發(fā)實(shí)驗(yàn)室或需要應(yīng)對多種類、多要求樣品的質(zhì)量控制部門，S neox的多功能性和靈活性提供了一個(gè)較為全面的解決方案。