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臺(tái)式電鏡&臺(tái)階儀&原位分析
澤攸臺(tái)式掃描電鏡
樣品處理與制備:ZEM系列臺(tái)式電鏡
樣品處理與制備:ZEM系列臺(tái)式電鏡澤攸電鏡的JS系列臺(tái)階儀是進(jìn)行納米尺度表面輪廓和膜厚測(cè)量的工具。它與掃描電鏡技術(shù)相結(jié)合,可提供多維度的樣品信息。
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澤攸電鏡的JS系列臺(tái)階儀是進(jìn)行納米尺度表面輪廓和膜厚測(cè)量的工具。它與掃描電鏡技術(shù)相結(jié)合,可提供多維度的樣品信息。樣品處理與制備:ZEM系列臺(tái)式電鏡
產(chǎn)品細(xì)節(jié)與性能:
JS系列采用壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)和柔性鉸鏈結(jié)構(gòu),實(shí)現(xiàn)了探針的平穩(wěn)掃描。測(cè)量力可調(diào),以適應(yīng)不同硬度樣品的測(cè)量需求,避免對(duì)樣品造成損傷。
核心參數(shù)(JS 400例):
掃描范圍:100μm × 100μm × 25μm (XYZ)
垂直分辨率:0.1nm
掃描速度:0.01 - 1mm/s
樣品尺寸:直徑≤ 6英寸
用途:
主要用于半導(dǎo)體制造中的膜厚測(cè)量、MEMS器件表面形貌表征、材料表面的粗糙度分析等。
澤攸電鏡提供多種可與掃描電鏡集成的原位樣品臺(tái),使研究人員能夠在微觀尺度觀察樣品在熱、力、電等外界條件下的動(dòng)態(tài)變化過(guò)程。
獲得清晰電鏡圖像的前提是良好的樣品制備。澤攸電鏡提供多種樣品制備設(shè)備,如離子濺射儀和臨界點(diǎn)干燥儀,覆蓋常見的制樣需求。
產(chǎn)品細(xì)節(jié)與用材:
離子濺射儀采用高純度金屬靶材(如金、鉑、碳),真空室由不銹鋼制成,配備數(shù)字式真空計(jì)和電流穩(wěn)定裝置,以控制鍍膜厚度。
核心參數(shù)(濺射儀Sputter 10例):
真空度:≤ 8 Pa
濺射電流:0 - 50 mA
靶材選擇:多種可選
定時(shí)范圍:0 - 999秒
用途:
為不導(dǎo)電的樣品(如生物組織、高分子材料)鍍上一層導(dǎo)電膜,防止電荷積累,改善圖像質(zhì)量。
使用簡(jiǎn)述:
將清潔干燥的樣品放入濺射儀樣品臺(tái),抽真空至設(shè)定值。設(shè)置濺射電流和時(shí)間,啟動(dòng)程序。完成后取出樣品即可上機(jī)觀察。樣品處理與制備:ZEM系列臺(tái)式電鏡
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