澤攸電鏡兼顧效率與細(xì)節(jié)的電鏡

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

澤攸電鏡兼顧效率與細(xì)節(jié)的電鏡
在半導(dǎo)體行業(yè)，EM2000 可用于芯片表面的缺陷檢測(cè)，快速定位劃痕、污染等問(wèn)題；在材料科學(xué)領(lǐng)域，能觀察復(fù)合材料的界面結(jié)構(gòu)，分析相分布情況；在地質(zhì)研究中，可識(shí)別礦物顆粒的微觀形態(tài)，輔助礦物鑒定。其高效的工作能力與精準(zhǔn)的成像效果，為各領(lǐng)域的研究與生產(chǎn)提供了有力支持。

產(chǎn)品型號(hào)：

更新時(shí)間：2025-08-25

廠商性質(zhì)：代理商

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產(chǎn)品咨詢 17701039158

產(chǎn)品分類

PRODUCT CLASSIFICATION

臺(tái)式電鏡&臺(tái)階儀&原位分析

澤攸澤攸臺(tái)式掃描電鏡澤攸臺(tái)階儀澤攸探針臺(tái)及低溫系統(tǒng) 澤攸TEM原位方案(樣品桿) 澤攸SEM原位解決方案

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澤攸電鏡在設(shè)計(jì)上注重提升工作效率，同時(shí)保持對(duì)細(xì)節(jié)的捕捉能力。電子槍采用 LaB6 燈絲，相較于傳統(tǒng)鎢燈絲，亮度提高約 5 倍，使用壽命延長(zhǎng)至 2000 小時(shí)以上，減少了燈絲更換頻率，降低了維護(hù)成本。鏡筒內(nèi)部關(guān)鍵部件采用鉬合金材料，耐高溫且穩(wěn)定性好，適合長(zhǎng)時(shí)間連續(xù)工作。澤攸電鏡兼顧效率與細(xì)節(jié)的電鏡

加速電壓范圍擴(kuò)展至 2kV-40kV，束流穩(wěn)定度優(yōu)于 1.5%/h，確保在長(zhǎng)時(shí)間測(cè)量過(guò)程中圖像質(zhì)量的一致性。二次電子像分辨率在 30kV 時(shí)達(dá)到 3nm，背散射電子像分辨率 5nm，能清晰呈現(xiàn)納米級(jí)別的微觀結(jié)構(gòu)。放大倍數(shù)覆蓋 100 倍 - 2000000 倍，滿足從宏觀到微觀的多尺度觀察需求。

樣品室采用大尺寸設(shè)計(jì)，直徑 200mm，高度 180mm，可容納更大尺寸的樣品或特殊樣品臺(tái)。配備全自動(dòng)樣品臺(tái)，移動(dòng)范圍 X/Y 100mm×100mm，定位精度 1μm，支持預(yù)設(shè)路徑自動(dòng)測(cè)量，適合批量樣品的快速檢測(cè)。真空系統(tǒng)由機(jī)械泵與渦輪分子泵組成，抽氣時(shí)間短，從大氣到工作真空（≤5×10??Pa）僅需 6 分鐘。

操作界面采用觸控屏設(shè)計(jì)，配合鼠標(biāo)鍵盤(pán)操作，軟件內(nèi)置多種測(cè)量模板，如顆粒分析、線寬測(cè)量等，可自動(dòng)識(shí)別并計(jì)算相關(guān)參數(shù)。使用時(shí)，通過(guò)樣品加載室快速更換樣品，無(wú)需破壞鏡筒真空，大幅縮短了樣品更換時(shí)間。

在半導(dǎo)體行業(yè)，可用于芯片表面的缺陷檢測(cè)，快速定位劃痕、污染等問(wèn)題；在材料科學(xué)領(lǐng)域，能觀察復(fù)合材料的界面結(jié)構(gòu)，分析相分布情況；在地質(zhì)研究中，可識(shí)別礦物顆粒的微觀形態(tài)，輔助礦物鑒定。其高效的工作能力與精準(zhǔn)的成像效果，為各領(lǐng)域的研究與生產(chǎn)提供了有力支持。澤攸電鏡兼顧效率與細(xì)節(jié)的電鏡

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