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澤攸電鏡ZEM20:科研微觀分析核心設(shè)備

產(chǎn)品簡介

澤攸電鏡ZEM20:科研微觀分析核心設(shè)備
在電子元件制造、汽車零部件生產(chǎn)、五金加工等工業(yè)領(lǐng)域,批量樣品的快速檢測與質(zhì)量把控是提升生產(chǎn)效率的關(guān)鍵,ZEM18 臺式掃描電子顯微鏡憑借優(yōu)化的檢測流程、耐用的工業(yè)級設(shè)計與便捷的數(shù)據(jù)管理功能,成為工業(yè)車間批量檢測的實用工具,助力企業(yè)實現(xiàn)高效質(zhì)量管控。

產(chǎn)品型號:
更新時間:2025-08-28
廠商性質(zhì):代理商
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澤攸電鏡ZEM20:科研微觀分析核心設(shè)備

在納米材料研發(fā)、量子器件研究、生物大分子結(jié)構(gòu)分析等前沿科研領(lǐng)域,對微觀觀察的精度、分析維度與數(shù)據(jù)深度要求,ZEM20 臺式掃描電子顯微鏡憑借全面的配置、靈活的定制化能力與精準(zhǔn)的數(shù)據(jù)分析功能,成為科研團隊探索微觀世界的核心設(shè)備,為突破性研究提供關(guān)鍵數(shù)據(jù)支撐。
一、產(chǎn)品細(xì)節(jié):定制化設(shè)計適配科研需求
ZEM20 在結(jié)構(gòu)設(shè)計上預(yù)留了豐富的擴展接口,可根據(jù)不同科研方向的需求,靈活加裝各類專用探測器與附件,例如為納米材料研究加裝掃描隧道顯微鏡(STM)模塊,實現(xiàn)原子級分辨率觀察;為生物研究配置冷凍樣品臺,保持生物樣品在觀察過程中的活性狀態(tài);為量子器件研究加裝電學(xué)性能測試模塊,同步獲取微觀形貌與電學(xué)數(shù)據(jù)。這種定制化能力,讓 ZEM20 能適配多樣化的科研場景,滿足不同領(lǐng)域的特殊研究需求。
機身內(nèi)部采用模塊化光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計,各核心部件(如電子槍、探測器、真空系統(tǒng))均為獨立單元,便于根據(jù)科研進展升級部件。例如隨著研究對分辨率要求提升,可將現(xiàn)有場發(fā)射電子槍升級為更高亮度的肖特基場發(fā)射電子槍;若需拓展分析維度,可新增電子能量損失譜儀(EELS),實現(xiàn)更精細(xì)的元素價態(tài)分析。模塊化設(shè)計不僅延長了設(shè)備的使用壽命,還降低了科研設(shè)備的長期投入成本。
操作區(qū)域配備專業(yè)級防震平臺,平臺采用氣浮式減震結(jié)構(gòu),能有效隔離實驗室環(huán)境中的低頻震動(如地面震動、空調(diào)運行震動),確保電子束在高倍率觀察(如 500,000x)時仍能保持穩(wěn)定,避免震動導(dǎo)致的圖像模糊,為原子級、納米級微觀結(jié)構(gòu)觀察提供穩(wěn)定的環(huán)境基礎(chǔ)。設(shè)備還配備專用的恒溫散熱系統(tǒng),通過精準(zhǔn)控制電子光學(xué)系統(tǒng)的工作溫度(波動范圍 ±0.1℃),減少溫度變化對電子束聚焦精度的影響,保障長期實驗數(shù)據(jù)的一致性。
二、產(chǎn)品性能:多維度分析支撐前沿研究
ZEM20 的場發(fā)射電子槍采用高亮度肖特基發(fā)射體,電子束亮度比傳統(tǒng)場發(fā)射電子槍提升 40%,電子束直徑可縮小至 0.5nm 以下,結(jié)合優(yōu)化的電子透鏡系統(tǒng),在 30kV 加速電壓下分辨率可達(dá) 1.0nm,1kV 低電壓下分辨率達(dá) 3.0nm,能清晰呈現(xiàn)納米材料的原子排列、量子點的尺寸分布、生物大分子的精細(xì)結(jié)構(gòu)。例如在二維材料研究中,可直接觀察石墨烯的褶皺結(jié)構(gòu)與邊緣形態(tài),分析缺陷密度對材料電學(xué)性能的影響;在量子器件研究中,能清晰分辨量子芯片上納米級電極的排布與連接狀態(tài),為器件性能優(yōu)化提供直觀依據(jù)。
掃描系統(tǒng)支持多種*成像模式,除常規(guī)二次電子成像、背散射電子成像外,還具備高角環(huán)形暗場掃描透射電子顯微鏡(HAADF-STEM)成像模式,通過探測高角度散射電子,生成原子序數(shù)襯度圖像,可直接區(qū)分樣品中不同原子序數(shù)的元素分布,甚至實現(xiàn)單原子成像。例如在催化劑研究中,利用 HAADF-STEM 模式可觀察催化劑顆粒的尺寸、分布及元素組成,分析催化活性位點的形成機制。
分析功能方面,標(biāo)配的 EDS 譜儀具備超高靈敏度,元素檢測下限達(dá) ppm 級別,支持輕元素(如 Li、Be、B)與重元素(如 U、Pu)的同時分析,元素分布 Mapping 成像分辨率達(dá) 5nm,能精準(zhǔn)呈現(xiàn)納米尺度下元素的分布規(guī)律。可選配的 EBSD 系統(tǒng)則可分析樣品的晶體結(jié)構(gòu)、晶粒取向、織構(gòu)分布,甚至獲取晶體缺陷(如位錯、孿晶)的信息,為材料力學(xué)性能、電學(xué)性能研究提供微觀結(jié)構(gòu)層面的解釋。例如在高溫合金研究中,通過 EBSD 分析晶粒取向分布,可揭示合金在高溫環(huán)境下的變形機制,為合金成分優(yōu)化提供數(shù)據(jù)支持。
三、用材與參數(shù):配置保障科研精度
ZEM20 的核心部件均選用科研級材料,電子透鏡采用高純度無氧銅材質(zhì),經(jīng)過超精密加工(表面粗糙度 Ra0.005μm)與真空退火處理,確保透鏡內(nèi)部無雜質(zhì)、無應(yīng)力,減少電子束在傳輸過程中的散射與能量損失,提升電子束聚焦精度。樣品臺采用鈦合金材質(zhì),鈦合金具有低密度、高強度、低磁性的特點,既能減少樣品臺自身重量對移動精度的影響,又能避免磁性材料對電子束的干擾,保障磁性材料樣品(如磁性納米顆粒、永磁體)的觀察與分析精度。
真空系統(tǒng)采用三級超高真空配置(機械泵 + 分子泵 + 離子泵),樣品室真空度可穩(wěn)定保持在 10??Pa 以下,達(dá)到超高真空級別,能有效減少殘余氣體分子與電子束、樣品的相互作用,避免樣品表面污染與電子束散射,適合長期(如 24 小時連續(xù))的原位實驗。例如在原位電化學(xué)實驗中,可在超高真空環(huán)境下觀察電極表面在電化學(xué)反應(yīng)過程中的微觀結(jié)構(gòu)變化,實時記錄反應(yīng)動態(tài)過程。
以下為 ZEM20 適配科研場景的核心參數(shù)表:
參數(shù)類別
科研場景適配參數(shù)
加速電壓
0.1kV~20kV(連續(xù)可調(diào),精度 ±0.01kV)
分辨率
1.0nm(30kV,二次電子);3.0nm(1kV,二次電子);0.8nm(HAADF-STEM 模式)
放大倍率
5x~500,000x(連續(xù)可調(diào),精度 ±0.1%)
樣品室尺寸
直徑 200mm,高度 150mm(支持定制樣品臺)
樣品臺功能
X 軸 ±40mm,Y 軸 ±40mm,Z 軸 80mm(全自動電動);旋轉(zhuǎn) 360°,傾斜 ±90°;支持原位加熱 / 冷卻 / 電學(xué)測試
探測器配置
二次電子探測器、背散射電子探測器、HAADF 探測器(標(biāo)配);EDS 譜儀、EBSD 系統(tǒng)、EELS(可選)
真空系統(tǒng)
機械泵 + 分子泵 + 離子泵(真空度≤10??Pa)
電源要求
AC 220V±5%,50/60Hz,3.0kW(需穩(wěn)壓電源)
成像模式
二次電子成像、背散射電子成像、HAADF-STEM 成像、原位動態(tài)成像
分析功能
元素定性 / 定量分析、元素分布 Mapping、晶體結(jié)構(gòu)分析、晶粒取向分析、元素價態(tài)分析(可選)
四、用途與使用說明:支撐多領(lǐng)域前沿科研
ZEM20 在科研領(lǐng)域的用途極為廣泛,在納米材料領(lǐng)域,可用于碳納米管、石墨烯、量子點等材料的形貌觀察、尺寸測量與結(jié)構(gòu)分析,研究材料制備工藝對微觀結(jié)構(gòu)的影響,為高性能納米材料研發(fā)提供依據(jù);在量子信息領(lǐng)域,能觀察量子芯片的納米級電路結(jié)構(gòu),檢測量子比特的制備質(zhì)量,分析量子器件的性能與微觀結(jié)構(gòu)的關(guān)聯(lián);在生物醫(yī)學(xué)領(lǐng)域,對冷凍電鏡制備的生物大分子(如蛋白質(zhì)、病毒)進行高分辨率觀察,解析大分子的三維結(jié)構(gòu),助力藥物設(shè)計與疾病機制研究;在能源材料領(lǐng)域,可觀察電池電極材料在充放電過程中的微觀結(jié)構(gòu)變化,分析材料的循環(huán)穩(wěn)定性與失效機制,為高性能電池研發(fā)提供關(guān)鍵數(shù)據(jù)。
針對科研場景的使用說明如下:首先,根據(jù)研究需求配置設(shè)備,例如進行原位加熱實驗時,需安裝原位加熱樣品臺,連接溫度控制系統(tǒng)并校準(zhǔn)溫度精度;進行元素價態(tài)分析時,需加裝 EELS 系統(tǒng)并進行能量校準(zhǔn)。然后進行樣品制備,科研樣品通常需經(jīng)過精細(xì)處理,如納米材料需分散在專用碳支持膜上,生物樣品需經(jīng)過冷凍干燥或臨界點干燥,金屬樣品需進行電解拋光或離子減薄,確保樣品滿足高分辨率觀察與分析要求。
啟動設(shè)備后,通過專用科研軟件設(shè)置實驗參數(shù),軟件支持自定義掃描路徑、多探測器同步采集、數(shù)據(jù)實時分析等功能。例如進行原位動態(tài)觀察時,可設(shè)置定時掃描模式(如每 10 分鐘掃描一次),連續(xù)記錄樣品在外界刺激(如溫度變化、電壓施加)下的微觀結(jié)構(gòu)變化;進行元素分布分析時,可設(shè)置高分辨率 Mapping 模式,獲取納米尺度下元素的精細(xì)分布圖像。實驗過程中,軟件會自動記錄所有實驗參數(shù)與原始數(shù)據(jù),確保實驗結(jié)果的可重復(fù)性與可追溯性。實驗完成后,可通過軟件進行數(shù)據(jù)處理,如晶粒尺寸統(tǒng)計、元素含量定量計算、晶體取向分析等,生成標(biāo)準(zhǔn)化的數(shù)據(jù)報告,方便用于科研論文發(fā)表與成果展示。
使用過程中需注意,超高真空系統(tǒng)啟動與關(guān)閉需嚴(yán)格遵循操作流程,避免真空度驟變損壞離子泵;原位實驗前需進行多次預(yù)實驗,驗證實驗參數(shù)的合理性;設(shè)備需由專業(yè)操作人員維護,每月進行一次真空系統(tǒng)檢漏,每半年進行一次電子光學(xué)系統(tǒng)校準(zhǔn),每年進行一次全面性能檢測,確保設(shè)備始終處于優(yōu)良工作狀態(tài)。
五、型號特點:科研的核心支撐
作為 ZEM 系列的旗艦型號,ZEM20 憑借頂尖的性能、靈活的定制化能力與全面的分析功能,成為科研團隊的核心設(shè)備。其原子級、納米級的觀察精度,能滿足前沿科研對微觀世界的探索需求;多維度的分析功能,可提供從形貌觀察到元素組成、晶體結(jié)構(gòu)、電學(xué)性能的數(shù)據(jù),為科研創(chuàng)新提供完整的微觀分析解決方案;穩(wěn)定的運行表現(xiàn)與可重復(fù)的實驗數(shù)據(jù),保障了科研成果的可靠性與科學(xué)性。
無論是推動納米科技、量子信息、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域的理論創(chuàng)新,還是助力能源材料、*制造等領(lǐng)域的技術(shù)突破,ZEM20 都能以強大的微觀分析能力,成為科研團隊的得力助手,為前沿科學(xué)研究提供堅實的設(shè)備支撐,加速科研成果的轉(zhuǎn)化與應(yīng)用。

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