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澤攸臺(tái)式掃描電鏡
澤攸ZEM18掃描電鏡操作全流程與軟件功能
澤攸ZEM18掃描電鏡操作全流程與軟件功能ZEM18 臺(tái)式掃描電子顯微鏡的參數(shù)設(shè)計(jì)圍繞 “多場(chǎng)景兼容" 展開(kāi),各項(xiàng)指標(biāo)均對(duì)應(yīng)具體的檢測(cè)需求。
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澤攸ZEM18掃描電鏡操作全流程與軟件功能
打開(kāi)設(shè)備總電源開(kāi)關(guān)(位于機(jī)身背面),此時(shí)控制面板指示燈亮起,進(jìn)入待機(jī)狀態(tài);
啟動(dòng)真空系統(tǒng):在觸控屏上點(diǎn)擊 “真空控制" 圖標(biāo),選擇 “自動(dòng)抽真空" 模式,設(shè)備將先啟動(dòng)機(jī)械泵(約 3 分鐘后機(jī)械泵達(dá)到工作轉(zhuǎn)速),隨后啟動(dòng)分子泵;
等待真空度達(dá)標(biāo):通過(guò)觸控屏實(shí)時(shí)查看真空壓力值,當(dāng)樣品室真空度降至 1×10??Pa 以下時(shí)(約 15 分鐘),設(shè)備提示 “真空就緒",此時(shí)可進(jìn)行后續(xù)操作;
預(yù)熱電子槍:點(diǎn)擊 “電子槍控制" 圖標(biāo),選擇 “預(yù)熱" 模式,鎢燈絲將逐步升溫至工作溫度(約 5 分鐘),預(yù)熱完成后電子槍指示燈變?yōu)榫G色,表明電子束可正常發(fā)射。
樣品預(yù)處理:導(dǎo)電樣品(如金屬、半導(dǎo)體)可直接用無(wú)塵布蘸取無(wú)水乙醇擦拭表面,去除油污或碎屑;非導(dǎo)電樣品(如聚合物、生物組織)需通過(guò)離子濺射儀噴涂 5-10nm 厚的金屬膜(常用材料為金或鉑),避免檢測(cè)時(shí)出現(xiàn)電荷積累;
樣品固定:將處理后的樣品放置在樣品臺(tái)專用夾具上,根據(jù)樣品尺寸選擇合適夾具(如圓形夾具適配 Φ10mm 以內(nèi)樣品,方形夾具適配 20mm×20mm 以內(nèi)樣品),用螺絲輕輕固定(力度適中,避免壓損樣品);
裝載樣品:打開(kāi)樣品室門(mén)(需先在觸控屏上點(diǎn)擊 “釋放真空",待真空度回升至大氣壓后),將樣品臺(tái)緩慢放入樣品室,關(guān)閉樣品室門(mén),重新啟動(dòng) “自動(dòng)抽真空",待真空度再次達(dá)標(biāo)后(約 5 分鐘),進(jìn)入?yún)?shù)設(shè)置環(huán)節(jié)。
樣品預(yù)處理:導(dǎo)電樣品(如金屬、半導(dǎo)體)可直接用無(wú)塵布蘸取無(wú)水乙醇擦拭表面,去除油污或碎屑;非導(dǎo)電樣品(如聚合物、生物組織)需通過(guò)離子濺射儀噴涂 5-10nm 厚的金屬膜(常用材料為金或鉑),避免檢測(cè)時(shí)出現(xiàn)電荷積累;
樣品固定:將處理后的樣品放置在樣品臺(tái)專用夾具上,根據(jù)樣品尺寸選擇合適夾具(如圓形夾具適配 Φ10mm 以內(nèi)樣品,方形夾具適配 20mm×20mm 以內(nèi)樣品),用螺絲輕輕固定(力度適中,避免壓損樣品);
裝載樣品:打開(kāi)樣品室門(mén)(需先在觸控屏上點(diǎn)擊 “釋放真空",待真空度回升至大氣壓后),將樣品臺(tái)緩慢放入樣品室,關(guān)閉樣品室門(mén),重新啟動(dòng) “自動(dòng)抽真空",待真空度再次達(dá)標(biāo)后(約 5 分鐘),進(jìn)入?yún)?shù)設(shè)置環(huán)節(jié)。
加速電壓選擇:根據(jù)樣品類型調(diào)整,非導(dǎo)電樣品或易損傷樣品(如生物細(xì)胞)設(shè)為 0.5kV-5kV,導(dǎo)電材料設(shè)為 5kV-18kV(例如觀察金屬晶界時(shí)可選 15kV);
探測(cè)器選擇:若需觀察表面形貌,選擇 “二次電子探測(cè)器(SE)";若需分析元素分布差異,選擇 “背散射電子探測(cè)器(BSE)",并可切換 “高角(HA)" 或 “低角(LA)" 模式(HA 模式適合區(qū)分重元素區(qū)域,LA 模式適合輕元素區(qū)域);
放大倍率與掃描速度:先從低倍率(20X-100X)開(kāi)始,通過(guò)樣品臺(tái)控制桿(或觸控屏 “樣品臺(tái)移動(dòng)" 功能)定位目標(biāo)區(qū)域,再逐步提升至所需倍率(如觀察納米結(jié)構(gòu)可選 100,000X);掃描速度根據(jù)成像需求調(diào)整,快速預(yù)覽設(shè)為 500-1000 線 / 秒,精細(xì)成像設(shè)為 50-200 線 / 秒(速度越低,圖像分辨率越高,但成像時(shí)間越長(zhǎng));
聚焦與對(duì)比度調(diào)整:點(diǎn)擊 “自動(dòng)聚焦" 按鈕,設(shè)備將自動(dòng)完成初步聚焦,隨后可通過(guò)手動(dòng)旋鈕微調(diào)聚焦清晰度;通過(guò) “亮度 / 對(duì)比度" 滑塊調(diào)整圖像明暗與細(xì)節(jié)層次,確保目標(biāo)區(qū)域特征清晰可見(jiàn)(例如觀察樣品邊緣時(shí),可適當(dāng)提高對(duì)比度)。
實(shí)時(shí)成像預(yù)覽:軟件界面左側(cè)顯示實(shí)時(shí)成像窗口,支持全屏或分屏(SE/BSE 對(duì)比)顯示,可通過(guò) “截圖" 按鈕捕捉當(dāng)前圖像(格式包括 BMP、TIFF、JPEG);
自動(dòng)功能:除自動(dòng)聚焦外,還支持 “自動(dòng)亮度 / 對(duì)比度"“自動(dòng)倍率校準(zhǔn)" 功能,新手用戶可通過(guò)這些功能快速獲得清晰圖像;
掃描模式切換:提供 “點(diǎn)掃描"“線掃描"“面掃描" 三種模式,點(diǎn)掃描適合局部區(qū)域精細(xì)聚焦,線掃描適合分析線性結(jié)構(gòu)(如導(dǎo)線寬度),面掃描為常規(guī)成像模式。
基礎(chǔ)處理:支持圖像裁剪、旋轉(zhuǎn)、縮放,以及亮度 / 對(duì)比度微調(diào)、降噪處理(通過(guò) “平滑濾鏡" 減少圖像雜點(diǎn));
測(cè)量功能:內(nèi)置長(zhǎng)度、面積、粒徑測(cè)量工具,點(diǎn)擊 “測(cè)量" 圖標(biāo)后,在圖像上標(biāo)記目標(biāo)區(qū)域(如兩點(diǎn)間距離、圓形區(qū)域直徑),軟件將自動(dòng)計(jì)算數(shù)值并顯示誤差范圍(測(cè)量精度與放大倍率相關(guān),1000X 倍率下長(zhǎng)度測(cè)量誤差約 ±0.1μm);
偽彩處理:可對(duì) BSE 圖像進(jìn)行偽彩染色(如用紅色顯示高原子序數(shù)區(qū)域,藍(lán)色顯示低原子序數(shù)區(qū)域),便于直觀區(qū)分不同元素區(qū)域。
數(shù)據(jù)分析:支持將多組圖像數(shù)據(jù)導(dǎo)入 “對(duì)比分析" 功能,自動(dòng)生成灰度值分布曲線、尺寸統(tǒng)計(jì)圖表(如粒徑分布直方圖),可導(dǎo)出為 Excel 格式;
報(bào)告生成:軟件內(nèi)置標(biāo)準(zhǔn)化報(bào)告模板,包含設(shè)備參數(shù)、樣品信息、圖像數(shù)據(jù)、測(cè)量結(jié)果等模塊,用戶可填寫(xiě)樣品名稱、檢測(cè)日期、操作人員等信息,插入圖像與分析圖表后,直接導(dǎo)出為 PDF 格式(支持自定義報(bào)告標(biāo)題與 logo)。
結(jié)束成像后,先將加速電壓降至 0kV,關(guān)閉電子槍(點(diǎn)擊 “電子槍控制"→“關(guān)閉");
釋放真空:在觸控屏上點(diǎn)擊 “釋放真空",待樣品室真空度回升至大氣壓后,打開(kāi)樣品室門(mén),取出樣品臺(tái),清潔樣品室內(nèi)部(用無(wú)塵布蘸取無(wú)水乙醇擦拭);
關(guān)閉真空系統(tǒng):點(diǎn)擊 “真空控制"→“關(guān)閉分子泵",待分子泵轉(zhuǎn)速降至 0 后(約 10 分鐘),關(guān)閉機(jī)械泵;
關(guān)閉設(shè)備總電源,拔掉電源線(若長(zhǎng)期不使用)。
禁止在真空未達(dá)標(biāo)時(shí)啟動(dòng)電子槍,避免電子束散射導(dǎo)致成像模糊,或損壞電子元件;
樣品裝載時(shí)需輕拿輕放,避免樣品臺(tái)碰撞樣品室內(nèi)部傳感器(如真空壓力傳感器);
軟件操作時(shí),禁止同時(shí)運(yùn)行其他大型程序,避免占用系統(tǒng)資源導(dǎo)致軟件卡頓或數(shù)據(jù)丟失;
若檢測(cè)過(guò)程中出現(xiàn)異常(如真空度無(wú)法達(dá)標(biāo)、圖像突然中斷),需立即關(guān)閉電子槍與真空系統(tǒng),聯(lián)系專業(yè)人員排查故障,不可自行拆解設(shè)備。
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